存儲器逆襲邏輯電路成第一大,DRAM功不可沒

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佚名
存儲器市場爆發(fā),DRAM市場前景看好。2017年全球存儲器市場增長率達到60%,首次超越邏輯電路,成為半導(dǎo)體第一大產(chǎn)品。DRAM繼續(xù)保持半導(dǎo)體存儲器領(lǐng)域市占率第一。DRAM廠商中,三星、SK海力士和美光均采用IDM模式繼續(xù)保...

存儲器市場爆發(fā),DRAM市場前景看好。2017年全球存儲器市場增長率達到60%,首次超越邏輯電路,成為半導(dǎo)體第一大產(chǎn)品。DRAM繼續(xù)保持半導(dǎo)體存儲器領(lǐng)域市占率第一。DRAM廠商中,三星、SK海力士和美光均采用IDM模式繼續(xù)保持壟斷地位,合計市占率超過95%,國產(chǎn)廠商開始積極布局,2018年將實現(xiàn)量產(chǎn),有望逐步改變當前產(chǎn)業(yè)格局。DRAM消費產(chǎn)品中,移動終端、服務(wù)器和PC依舊占據(jù)頭三名,合計占比86%,未來將繼續(xù)拉動DRAM消費增長。

三星領(lǐng)先優(yōu)勢明顯,傳統(tǒng)技術(shù)難以替代。三星于2017年開始量產(chǎn)第二代10nm級8Gb DDR4 DRAM,并持續(xù)擴大整體10nm級DRAM的產(chǎn)能,繼續(xù)維持與其他DRAM大廠1-2年以上的技術(shù)差距。新型存儲器由于存在CMOS兼容問題和器件級變化性,且DRAM 的性價比高,技術(shù)成熟且具有規(guī)模優(yōu)勢,預(yù)計未來5-10年內(nèi)難以被替代。同時,由于DRAM的平面微縮接近極限并向垂直方向擴展,18/16nm之后,薄膜厚度無法繼續(xù)縮減,且不適合采用高介電常數(shù)材料和電極,繼續(xù)在二維方向縮減尺寸已不再具備成本和性能方面的優(yōu)勢,3D DRAM在寬松尺寸下能夠?qū)崿F(xiàn)高密度容量,且寄生阻容減少,延時串擾低,未來可能成為DRAM的演進方向。

受益于需求增長拉動,DRAM保持量價齊增態(tài)勢。隨著5G商用逼近以及云計算、IDC業(yè)務(wù)的拉動,移動終端、服務(wù)器和PC側(cè)的消費需求增長明顯。各大廠商擴產(chǎn)熱情不減,包括三星在韓國平澤的P1廠房和Line 15生產(chǎn)線,SK海力士的M14生產(chǎn)線,以及美光在廣島的Fab 15和Fab 16的擴產(chǎn)計劃,但由于光刻技術(shù)接近瓶頸,良率問題日益突出以及新技術(shù)的出現(xiàn),各廠商工藝進程都有所推遲,預(yù)計2018年全球DRAM產(chǎn)能增加10%,2018年DRAM依舊保持量價齊增態(tài)勢。

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