在過去的幾年間，英偉達(dá)的GPU一直由臺(tái)積電進(jìn)行代工，帶來了諸如性能大幅提升的10系、支持實(shí)時(shí)光線追蹤的RTX顯卡產(chǎn)品，兩家公司維持著相對(duì)穩(wěn)固的合作。不過這樣的合作模式即將發(fā)生改變：在2020年投產(chǎn)的安培架構(gòu)GPU上，英偉達(dá)將改用三星的7nm EUV工藝進(jìn)行生產(chǎn)。
根據(jù)digitimes報(bào)道，由于產(chǎn)品規(guī)劃節(jié)奏把握上的原因，錯(cuò)過了臺(tái)積電7nm制程生產(chǎn)序列的英偉達(dá)放棄了等待轉(zhuǎn)而與三星半導(dǎo)體合作，將用更新的7nm EUV工藝來進(jìn)行2020年的安培架構(gòu)GPU生產(chǎn)。
行業(yè)消息人士稱，此前在7nm研制上落后于半導(dǎo)體行業(yè)的三星選擇用更先進(jìn)的7nm EUV工藝來跟上節(jié)奏，但目前良品率和生產(chǎn)質(zhì)量還沒有明確保障。英偉達(dá)在這樣的前提下選擇和三星合作，一個(gè)重要的原因是三星給出了更加低廉的代工生產(chǎn)報(bào)價(jià)。
至于目前利潤率得到保障的英偉達(dá)為什么還要鋌而走險(xiǎn)，采用驗(yàn)證并不深入的三星7nm EUV工藝完成新一代架構(gòu)GPU的生產(chǎn)，目前眾說紛紜。其中一個(gè)置信較高的說法是，臺(tái)積電在獲得了來自蘋果、AMD、高通和華為的大量訂單后很難再降低7nm工藝的價(jià)格，而三星給出的低價(jià)打動(dòng)了為成本苦惱的英偉達(dá)。
在原本大量應(yīng)用顯卡的挖礦風(fēng)潮過去之后，20系顯卡缺乏強(qiáng)有力賣點(diǎn)的英偉達(dá)出貨量更是不如人意，收益報(bào)表的數(shù)字遠(yuǎn)不如從前來得好看。為了讓收益控制在較為好看的水平上，選用更低價(jià)且時(shí)效有保障的三星7nm EUV工藝，或許成了對(duì)英偉達(dá)來說更好的選擇。
半導(dǎo)體行業(yè)正處于一個(gè)微妙的歷史轉(zhuǎn)折時(shí)期，行業(yè)領(lǐng)先的英特爾、格羅方德、三星和英特爾都面臨著制程難以繼續(xù)進(jìn)步的尷尬，想要在同等面積晶圓中塞入更多的半導(dǎo)體已經(jīng)不如從前那樣輕松，更別說遵守摩爾定律。
這個(gè)時(shí)候來自芯片設(shè)計(jì)廠商的產(chǎn)能需求卻持續(xù)維持在不低的水平上，如何推進(jìn)工藝提升，又如何滿足產(chǎn)量需要，成了半導(dǎo)體行業(yè)需要面臨的新問題。
